Pirômetro para semicondutores IMPAC UV 400 e UVR 400, são sistemas da LumaSense  que podem ser considerados  a próxima geração de sensores de temperatura desenvolvidos especificamente para processos epitaxiais MOCVD baseados em GaN.

Epitaxia refere-se ao método de deposição de uma película monocristalina sobre um substrato monocristalino. A película depositada é denominada como película ou camada epitaxial.

O desenvolvimento da tecnologia de semicondutores está baseado na síntese de camadas finas de filmes superpostos, sistema de mesa epitaxial, utilizado desde a invenção dos transístores.

Imagem pirômetro semiconditores série uv-400

Pirômetro para semicondutores IMPAC UV 400 e UVR 400

A LumaSense foi pioneira no primeiro pirômetro com refletômetro integrado (TR 100) em 2001, estabelecendo o padrão da indústria para compensação de emissividade ativa usando 950 nm e fibra ótica. Nossos avanços em sensores de tubo de luz de safira e fontes de calibração de corpo negro in situ proporcionam uma solução completa de medição de temperatura.

O UV 400 e o UVR 400 agora permitem a medição direta da temperatura da superfície da pastilha, em vez da temperatura tradicional do susceptor / cavidade. Esta medição aprimorada permite um controle mais preciso da temperatura da pastilha, levando a um rendimento melhorado.

Esses sistemas agora estão definindo um novo padrão para os processos de produção de LED, com resultados mostrando uma correlação confiável entre a temperatura do processo e o comprimento de onda do produto final.

– Principais características

  • Medida da temperatura diretamente na camada de GaN usando instrumentação de comprimento de onda UV
  • Fornecimento de uma ampla faixa de temperatura (650 a 1300 ° C) para permitir a cobertura do crescimento principal do buffer e do crescimento do MQW
  • Minimização do ruído na medição usando instrumentação verdadeira de contagem de fótons
  • Captura da medição de refletância em tempo real usando uma fonte de luz pulsante rápida
  • Inclui 2 tipos de interface: saída analógica e RS485 com protocolo UPP

– Benefícios

  • Melhora o rendimento através da medição precisa e verdadeira da temperatura da bolacha
  • Obtenção de uma temperatura de wafer confiável com correlação de comprimento de onda PL
  • Impede a oscilação da temperatura do resíduo como visto em pirômetros compensados pela emissividade NIR
  • Realiza medição de refletância em tempo real contínua
  • Evita distorção de dados devido a amostragem atrasada (sem obturador ativado e desativado)
  • Fornece uma solução completa para o controle de temperatura do reator com PhotriX e opções concêntricas de lightpipe

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